Di tengah lonjakan kebutuhan komputasi AI, Samsung Electronics memperluas kolaborasi dengan ASML untuk mendorong lahirnya teknologi manufaktur semikonduktor generasi berikutnya. Pada 8 September 2026, perusahaan Korea Selatan itu mengumumkan keterlibatan dalam pengembangan photomask 12 inci serta percepatan adopsi litografi High NA EUV, langkah strategis yang ditujukan untuk memperkuat daya saing proses mikro di bisnis memori dan foundry. Kemitraan ini berporos di Korea Selatan dan Belanda namun bersifat kolaborasi global.
Samsung bergabung dalam “Large Size Mask Consortium” yang dipimpin ASML guna merintis photomask 12 inci. Hingga kini industri mengandalkan photomask 6 inci. Peralihan ke 12 inci ditujukan mengatasi batas teknis yang muncul pada litografi modern, sekaligus membuka jalan bagi penerapan High NA EUV di lini produksi.
Photomask adalah pelat berisi pola sirkuit yang diproyeksikan ke wafer oleh alat litografi untuk membentuk rangkaian semikonduktor. Seiring mengecilnya fitur sirkuit, presisi pola menjadi krusial bagi kinerja dan hasil produksi. Dalam format 6 inci, proses “stitching”—menggabungkan paparan pola dari beberapa area—dapat memunculkan keterbatasan. Memperbesar ukuran ke 12 inci diharapkan mengurangi kendala tersebut, meningkatkan stabilitas pola, serta memperbaiki efisiensi produksi ketika teknologi High NA EUV diterapkan.
High NA EUV memanfaatkan numerical aperture lebih tinggi dibanding EUV saat ini, sehingga mampu mencetak fitur lebih halus dengan potensi penyederhanaan tahapan proses. Samsung menargetkan penggunaan High NA EUV pada manufaktur DRAM canggih mulai 2028. Penerapan ini dipandang dapat memperkuat strategi pemrosesan mikro DRAM, dengan produktivitas dan kontrol biaya yang lebih baik.
Mengoperasikan bisnis memori dan foundry secara bersamaan, Samsung berencana memanfaatkan pengalaman produksi massal EUV untuk mendukung riset photomask 12 inci dan pembangunan ekosistem terkait bersama para mitra konsorsium, termasuk pengembangan standar.
Makna strategis kerja sama ini melampaui hubungan pemasok–pembeli peralatan. ASML adalah pemasok inti alat litografi EUV dan High NA EUV, sementara Samsung merupakan produsen terintegrasi yang mengelola memori sekaligus layanan foundry. Penguatan kolaborasi pada photomask berukuran besar dan High NA EUV dipandang dapat mempercepat kesiapan teknologi manufaktur generasi berikutnya.
Jeon Young-hyun, wakil ketua sekaligus CEO Samsung Electronics, menegaskan pentingnya inovasi di era AI dan komitmen memperkuat daya saing manufaktur chip, baik di foundry maupun memori, sembari membangun fondasi teknologi untuk “Next AI” bersama ASML. Christophe Fouquet, CEO ASML, menyebut Samsung sebagai mitra inovasi lama dan menyatakan tekad mendorong pengembangan teknologi manufaktur baru dalam lanskap pasar yang kian dipimpin AI.
Kedua perusahaan menyatakan akan terus memperluas ruang lingkup kolaborasi ke memori tingkat lanjut dan pendekatan manufaktur baru. Seiring meningkatnya kompleksitas proses pada chip AI, photomask 12 inci dan High NA EUV menempati posisi kunci untuk menopang daya saing generasi berikutnya di lini memori dan foundry Samsung.
